Plasma etching processes for CMOS device realization /

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Posseme, Nicolas (Editor )
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: London, UK : Kidlington, Oxford, UK : ISTE Press ; Elsevier, 2017.
Temas:
Plasma etching.
Metal oxide semiconductors, Complementary.
Gravure par plasma.
MOS compl�ementaires.
TECHNOLOGY & ENGINEERING > Electronics > Semiconductors.
Metal oxide semiconductors, Complementary
Plasma etching
Acceso en línea:Texto completo

Internet

Texto completo

Items no disponibles

Detalle de Existencias desde

Ejemplares similares