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Characterization in silicon processing /

This volume is devoted to the consideration of the use use of surface, thin film and interface characterization tools in support of silicon-based semiconductor processing. The approach taken is to consider each of the types of films used in silicon devices individually in its own chapter and to disc...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Strausser, Yale
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Boston : Greenwich : Butterworth-Heinemann ; Manning, ©1993.
Colección:Materials characterization series.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo
Search Result 1
por Strausser, Yale
Publicado 2013
Texto completo (Requiere registro previo con correo institucional)
Electrónico eBook
Search Result 2
Publicado 1993
Texto completo
Electrónico eBook