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Defects and diffusion in semiconductors : an annual retrospective XIV /

A study was made of the diffusion of Al in AlAs/GaAs distributed Bragg-reflectors using the high angle annular dark field scanning transmission electron microscopy intensity. The measured intensity was normalized to the intensity of the incoming electron beam using a detector scan. The normalized in...

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Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Fisher, D. J. (Editor )
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Durnten-Zurich : TTP, [2012]
Colección:Diffusion and defect data. Defect and diffusion forum ; v. 332.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

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