Plasma etching processes for CMOS device realization /

Détails bibliographiques
Cote:Libro Electrónico
Autres auteurs: Posseme, Nicolas (Éditeur intellectuel)
Format: Électronique eBook
Langue:Inglés
Publié: London, UK : Kidlington, Oxford, UK : ISTE Press ; Elsevier, 2017.
Sujets:
Plasma etching.
Metal oxide semiconductors, Complementary.
Gravure par plasma.
MOS compl�ementaires.
TECHNOLOGY & ENGINEERING > Electronics > Semiconductors.
Metal oxide semiconductors, Complementary
Plasma etching
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