CW beam processing of silicon and other semiconductors /

SEMICONDUCTORS & amp; SEMIMETALS V17.

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Gibbons, James F.
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Orlando, Fla. : Academic Press, 1984.
Colección:Semiconductors and semimetals ; v. 17.
Temas:
Silicon.
Semiconductors.
Lasers > Industrial applications.
Silicon
Semiconductors
Lasers > Applications industrielles.
Silicium.
Semi-conducteurs.
silicon.
semiconductor.
SCIENCE > Physics > Electricity.
Lasers > Industrial applications
Lasers �a gaz > Applications scientifiques.
Faisceaux laser.
Semiconducteurs.
Non-m�etaux.
Acceso en línea:Texto completo
Texto completo
Tabla de Contenidos:
  • Beam processing of silicon / J.F. Gibbons
  • Temperature distributions and solid phase reaction rates produced by scanning CW beams / A. Lietoila [and others]
  • Applications of CW beam processing to ion implanted crystalline silicon / A. Lietoila, J.F. Gibbons
  • Electronic defects in CW transient thermal processed silicon / N.M. Johnson
  • Beam recrystallized polycrystalline silicon / K.F. Lee, T.J. Stultz, J.F. Gibbons
  • Metal-silicon reactions and silicide formation / T. Shibata [and others]
  • CW bean processing of gallium arsenide / Y.I. Nissim, J.F. Gibbons.

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