Chargement en cours…

Atomic Layer Deposition for Semiconductors

Atomic Layer Deposition (ALD) was originally designed for depositing uniform passivation layers over a very large area  for display devices in the late 1970s. Only recently, in the 21st century, has the this technique become popular for high integrated semiconductor memory devices. This book discuss...

Description complète

Détails bibliographiques
Cote:Libro Electrónico
Collectivité auteur: SpringerLink (Online service)
Autres auteurs: Hwang, Cheol Seong (Éditeur intellectuel)
Format: Électronique eBook
Langue:Inglés
Publié: New York, NY : Springer US : Imprint: Springer, 2014.
Édition:1st ed. 2014.
Sujets:
Accès en ligne:Texto Completo

Documents similaires