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Handbook of silicon wafer cleaning technology /

Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology, Third Edition, provides an in-depth discussion of cleaning, etching and surface conditioning for semiconductor applications. The fundamental physics and chemistry associated with wet and plasma processing are reviewed, including surface and colloidal as...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Reinhardt, Karen A. (Editor ), Kern, Werner, 1925- (Editor )
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Cambridge, MA : William Andrew, [2018]
Edición:Third edition.
Colección:Materials science and process technology series.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

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