Cargando…

Plasma sources for thin film deposition and etching /

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Francombe, Maurice H. (Editor ), Vossen, John L. (Editor )
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: San Diego, CA. : Academic Press, 1994.
Colección:Physics of thin films ; volume 18.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000 i 4500
001 SCIDIR_ocn892737527
003 OCoLC
005 20231120111809.0
006 m o d
007 cr cnu---unuuu
008 141010s1994 caua ob 101 0 eng d
040 |a OPELS  |b eng  |e rda  |e pn  |c OPELS  |d UIU  |d YDXCP  |d IDEBK  |d EBLCP  |d OCLCQ  |d DEBSZ  |d MERUC  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d VLY  |d LUN  |d OCLCQ  |d COM  |d OCLCO  |d OCL  |d OCLCQ  |d OCLCO 
019 |a 926092572  |a 929529998  |a 1162386972 
020 |a 9780080925134  |q (electronic bk.) 
020 |a 0080925138  |q (electronic bk.) 
020 |z 9780125330183 
020 |z 0125330189 
035 |a (OCoLC)892737527  |z (OCoLC)926092572  |z (OCoLC)929529998  |z (OCoLC)1162386972 
050 4 |a QC176.83 
082 0 4 |a 530.4/175  |2 23 
084 |a 33.80  |2 bcl 
084 |a UP 7550  |2 rvk 
084 |a UP 1100  |2 rvk 
245 0 0 |a Plasma sources for thin film deposition and etching /  |c edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen. 
264 1 |a San Diego, CA. :  |b Academic Press,  |c 1994. 
300 |a 1 online resource (xiii, 397 pages) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a Physics of thin films ;  |v volume 18 
504 |a Includes bibliographical references and indexes. 
588 0 |a Print version record. 
546 |a English. 
650 0 |a Thin films. 
650 6 |a Couches minces.  |0 (CaQQLa)201-0035883 
650 7 |a Thin films  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01150018 
650 7 |a D�unne Schicht  |2 gnd  |0 (DE-588)4136925-7 
650 7 |a Herstellung  |2 gnd  |0 (DE-588)4159653-5 
650 7 |a Plasmaanlage  |2 gnd  |0 (DE-588)4139324-7 
650 7 |a �Atzen  |2 gnd  |0 (DE-588)4000648-7 
650 7 |a Couches minces.  |2 ram 
650 7 |a Projection au plasma.  |2 ram 
650 7 |a Technique des plasmas.  |2 ram 
655 2 |a Congress  |0 (DNLM)D016423 
655 7 |a proceedings (reports)  |2 aat  |0 (CStmoGRI)aatgf300027316 
655 7 |a Conference papers and proceedings  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01423772 
655 7 |a Conference papers and proceedings.  |2 lcgft 
655 7 |a Actes de congr�es.  |2 rvmgf  |0 (CaQQLa)RVMGF-000001049 
700 1 |a Francombe, Maurice H.,  |e editor. 
700 1 |a Vossen, John L.,  |e editor. 
776 0 8 |i Print version:  |t Plasma sources for thin film deposition and etching  |z 0125330189  |w (DLC) 63016561  |w (OCoLC)31414635 
830 0 |a Physics of thin films ;  |v volume 18. 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9780080925134  |z Texto completo