MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 SCIDIR_ocn829713525
003 OCoLC
005 20231117044836.0
006 m o d
007 cr cnu---unuuu
008 130311s1996 ne a ob 101 0 eng d
040 |a N$T  |b eng  |e pn  |c N$T  |d OCLCO  |d E7B  |d UIU  |d OCLCF  |d OCLCQ  |d UKDOC  |d OCLCO  |d YDXCP  |d OCL  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d EBLCP  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d LEAUB  |d OCLCQ  |d VLY  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d COM  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d OCLCO 
019 |a 932347218 
020 |a 9780444599742  |q (electronic bk.) 
020 |a 0444599746  |q (electronic bk.) 
020 |z 0444823344 
020 |z 9780444823342 
035 |a (OCoLC)829713525  |z (OCoLC)932347218 
050 4 |a TA418.6  |b .I555 1995eb 
072 7 |a TEC  |x 008090  |2 bisacsh 
072 7 |a TEC  |x 008100  |2 bisacsh 
082 0 4 |a 621.3815/2  |2 22 
111 2 |a International Conference on Ion Beam Modification of Materials  |n (9th :  |d 1995 :  |c Canberra, A.C.T.) 
245 1 0 |a Ion beam modification of materials :  |b proceedings of the ninth International Conference on Ion Beam Modification of Materials, Canberra, Australia, 5-10 February, 1995 /  |c editors, J.S. Williams, R.G. Elliman, M.C. Ridgway. 
260 |a Amsterdam ;  |a New York :  |b Elsevier Science,  |c 1996. 
300 |a 1 online resource (xix, 1136 pages) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
588 0 |a Print version record. 
505 0 |a pt. I, section I. Basic processes ; section II. Low energy processes ; section III. Defect formation and annealing of semiconductors ; section IV. Semiconductor processing, devices and optical materials ; section V. Modification of non-semiconductor materials ; section VI. Novel processing : applications and techniques -- pt. II, section A. Basic processes ; section B. Low-energy processes ; section C. Defect formation and annealing of semiconductors ; section D. Semiconductor processing, devices and optical materials ; section E. Modification of non-semiconductor materials ; section F. Novel processing : applications and techniques. 
650 0 |a Materials  |x Effect of radiation on  |v Congresses. 
650 0 |a Ion bombardment  |v Congresses. 
650 0 |a Electronics  |x Materials  |x Effect of radiation on  |v Congresses. 
650 6 |a Mat�eriaux  |0 (CaQQLa)201-0065310  |x Effets du rayonnement sur  |0 (CaQQLa)201-0065310  |v Congr�es.  |0 (CaQQLa)201-0378219 
650 6 |a Bombardement ionique  |0 (CaQQLa)201-0004234  |v Congr�es.  |0 (CaQQLa)201-0378219 
650 6 |a �Electronique  |0 (CaQQLa)201-0016374  |x Mat�eriaux  |0 (CaQQLa)201-0016374  |x Effets du rayonnement sur  |0 (CaQQLa)000274318  |v Congr�es.  |0 (CaQQLa)201-0378219 
650 7 |a TECHNOLOGY & ENGINEERING  |x Electronics  |x Semiconductors.  |2 bisacsh 
650 7 |a TECHNOLOGY & ENGINEERING  |x Electronics  |x Solid State.  |2 bisacsh 
650 7 |a Electronics  |x Materials  |x Effect of radiation on  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00907565 
650 7 |a Ion bombardment  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00978567 
650 7 |a Materials  |x Effect of radiation on  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01011816 
655 2 |a Congress  |0 (DNLM)D016423 
655 7 |a proceedings (reports)  |2 aat  |0 (CStmoGRI)aatgf300027316 
655 7 |a Conference papers and proceedings  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01423772 
655 7 |a Conference papers and proceedings.  |2 lcgft 
655 7 |a Actes de congr�es.  |2 rvmgf  |0 (CaQQLa)RVMGF-000001049 
700 1 |a Williams, James S.  |q (James Stanislaus),  |d 1948- 
700 1 |a Elliman, R. G.  |q (Rob G.) 
700 1 |a Ridgway, M. C.  |q (Mark C.) 
776 0 8 |i Print version:  |a International Conference on Ion Beam Modification of Materials (9th : 1995 : Canberra, A.C.T.).  |t Ion beam modification of materials.  |d Amsterdam ; New York : Elsevier Science, 1996  |z 0444823344  |w (DLC) 96006750  |w (OCoLC)34281645 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9780444823342  |z Texto completo