MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 SCIDIR_ocn714902537
003 OCoLC
005 20231117044604.0
006 m o d
007 cr bn||||||abp
007 cr bn||||||ada
008 110425s1989 caua ob 001 0 eng d
040 |a OCLCE  |b eng  |e pn  |c OCLCE  |d OCLCQ  |d OCLCF  |d OCLCQ  |d UIU  |d OCLCO  |d EBLCP  |d N$T  |d DEBSZ  |d OCLCQ  |d UAB  |d MERUC  |d OCLCQ  |d STF  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCQ 
019 |a 761320474  |a 897652073  |a 987646750  |a 1187187106  |a 1197570032 
020 |a 9781483217857 
020 |a 148321785X 
020 |z 9780122341212 
020 |z 012234121X 
035 |a (OCoLC)714902537  |z (OCoLC)761320474  |z (OCoLC)897652073  |z (OCoLC)987646750  |z (OCoLC)1187187106  |z (OCoLC)1197570032 
042 |a dlr 
050 4 |a TK7874  |b .V56 v.21 
072 7 |a TEC  |x 009070  |2 bisacsh 
082 0 4 |a 621.395 
245 0 0 |a Beam processing technologies /  |c edited by Norman G. Einspruch, S.S. Cohen, Raj N. Singh. 
260 |a San Diego, Calif. :  |b Academic Press,  |c �1989. 
300 |a 1 online resource (xii, 546 pages) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a VLSI electronics : microstructure science ;  |v v. 21 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
506 |3 Use copy  |f Restrictions unspecified  |2 star  |5 MiAaHDL 
533 |a Electronic reproduction.  |b [Place of publication not identified] :  |c HathiTrust Digital Library,  |d 2011.  |5 MiAaHDL 
538 |a Master and use copy. Digital master created according to Benchmark for Faithful Digital Reproductions of Monographs and Serials, Version 1. Digital Library Federation, December 2002.  |u http://purl.oclc.org/DLF/benchrepro0212  |5 MiAaHDL 
583 1 |a digitized  |c 2011  |h HathiTrust Digital Library  |l committed to preserve  |2 pda  |5 MiAaHDL 
588 0 |a Print version record. 
650 0 |a Integrated circuits  |x Very large scale integration. 
650 0 |a Electron beams. 
650 0 |a Ion bombardment. 
650 0 |a Molecular beam epitaxy. 
650 6 |a Circuits int�egr�es �a tr�es grande �echelle.  |0 (CaQQLa)201-0117255 
650 6 |a Faisceaux �electroniques.  |0 (CaQQLa)201-0004712 
650 6 |a Bombardement ionique.  |0 (CaQQLa)201-0004234 
650 6 |a �Epitaxie par jets mol�eculaires.  |0 (CaQQLa)201-0282349 
650 7 |a TECHNOLOGY & ENGINEERING  |x Mechanical.  |2 bisacsh 
650 7 |a Electron beams.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00906654 
650 7 |a Integrated circuits  |x Very large scale integration.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00975602 
650 7 |a Ion bombardment.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00978567 
650 7 |a Molecular beam epitaxy.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01024729 
700 1 |a Einspruch, Norman G. 
700 1 |a Cohen, Simon S.  |q (Simon S.) 
700 1 |a Singh, Raj N. 
776 0 8 |i Print version:  |t Beam processing technologies.  |d San Diego, Calif. : Academic Press, �1989  |w (OCoLC)20029544 
830 0 |a VLSI electronics ;  |v v. 21. 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9780122341212  |z Texto completo 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/bookseries/07367031/21  |z Texto completo