MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 SCIDIR_ocn610165451
003 OCoLC
005 20231117033109.0
006 m o d
007 cr bn||||||abp
007 cr bn||||||ada
008 100429m19811985nyua ob 001 0 eng d
040 |a OCLCE  |b eng  |e pn  |c OCLCE  |d OCLCQ  |d OCLCF  |d UIU  |d OPELS  |d UIU  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d OCLCO 
019 |a 655451186  |a 655693288  |a 655734533  |a 974619339 
020 |z 9780120029549  |q (pt. A) 
020 |z 0120029545  |q (pt. A) 
020 |z 9780120029570  |q (pt. B) 
020 |z 012002957X  |q (pt. B) 
020 |z 9780120029600  |q (pt. C) 
020 |z 012002960X  |q (pt. C) 
035 |a (OCoLC)610165451  |z (OCoLC)655451186  |z (OCoLC)655693288  |z (OCoLC)655734533  |z (OCoLC)974619339 
042 |a dlr 
050 4 |a TK7871.99.M44  |b S54 
082 0 4 |a 621.381/71  |2 19 
245 0 0 |a Silicon integrated circuits /  |c edited by Dawon Kahng. 
260 |a New York :  |b Academic Press,  |c 1981-1985. 
300 |a 1 online resource (3 volumes) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a Applied solid state science. Supplement,  |x 0194-2891 ;  |v 2 
504 |a Includes bibliographical references and indexes. 
505 0 |a pt. A. Physics of the MOS transistor / John R. Brews. Nonvolatile memories / Yoshio Nishi and Hisakazu Iizuka. The properties of silicon-on-sapphire substrates, devices, and integrated circuits / Alfred C. Ipri -- pt. B. Physics and chemistry of impurity diffusion and oxidation of silicon / Richard B. Fair. Silicon power field controlled devices and integrated circuits / B. Jayant Baliga -- pt. C. Transient thermal processing of silicon / G.K. Celler and T.E. Seidel. Reactive ion-beam etching and plasma deposition techniques using electron cyclotron resonance plasmas / Seitaro Matsua. Physics of VLSI processing and process simulation / W. Fichtner. 
506 |3 Use copy  |f Restrictions unspecified  |2 star  |5 MiAaHDL 
533 |a Electronic reproduction.  |b [Place of publication not identified] :  |c HathiTrust Digital Library,  |d 2010.  |5 MiAaHDL 
538 |a Master and use copy. Digital master created according to Benchmark for Faithful Digital Reproductions of Monographs and Serials, Version 1. Digital Library Federation, December 2002.  |u http://purl.oclc.org/DLF/benchrepro0212  |5 MiAaHDL 
583 1 |a digitized  |c 2010  |h HathiTrust Digital Library  |l committed to preserve  |2 pda  |5 MiAaHDL 
588 0 |a Print version record. 
650 0 |a Metal oxide semiconductors. 
650 0 |a Semiconductor storage devices. 
650 0 |a Integrated circuits. 
650 6 |a MOS (�Electronique)  |0 (CaQQLa)201-0032323 
650 6 |a Ordinateurs  |x M�emoires �a semi-conducteurs.  |0 (CaQQLa)201-0318271 
650 6 |a Circuits int�egr�es.  |0 (CaQQLa)201-0032322 
650 7 |a Integrated circuits  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00975535 
650 7 |a Metal oxide semiconductors  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01017624 
650 7 |a Semiconductor storage devices  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01112182 
650 7 |a Circuits int�egr�es.  |2 ram 
650 7 |a Semiconducteurs.  |2 ram 
700 1 |a Kahng, Dawon. 
776 0 8 |i Print version:  |t Silicon integrated circuits.  |d New York : Academic Press, 1981-1985  |w (DLC) 81126148  |w (OCoLC)7373012 
830 0 |a Applied solid state science.  |p Supplement ;  |v 2.  |x 0194-2891 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9780120029549  |z Texto completo 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9780120029570  |z Texto completo 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9780120029600  |z Texto completo