Cargando…

Photoelasticity proceedings of the international symposium held at Illinois Institute of Technology.

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Autores Corporativos: International Symposium on Photoelasticity Chicago, Ill., Illinois Institute of Technology, United States. Army Research Office
Otros Autores: Frocht, Max Mark, 1894-1974 (Editor )
Formato: Electrónico Congresos, conferencias eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Oxford, New York, Symposium Publications Division, Pergamon Press, 1963.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000 4500
001 SCIDIR_ocn596437374
003 OCoLC
005 20231117033025.0
006 m o d
007 cr bn||||||abp
007 cr bn||||||ada
008 100402s1963 enkad ob 100 0 eng d
040 |a OCLCE  |b eng  |e pn  |c OCLCE  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCA  |d OCLCQ  |d OCLCF  |d OPELS  |d OCL  |d OCLCQ  |d STF  |d AU@  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d OCLCO 
016 7 |a 000010402533  |2 AU 
019 |a 300751076  |a 974615914  |a 1057938497 
020 |a 9781483198392  |q (electronic bk.) 
020 |a 1483198391  |q (electronic bk.) 
035 |a (OCoLC)596437374  |z (OCoLC)300751076  |z (OCoLC)974615914  |z (OCoLC)1057938497 
042 |a dlr 
050 4 |a TA406  |b .I5 1961 
082 0 4 |a 620.1123 
111 2 |a International Symposium on Photoelasticity  |d (1961 :  |c Chicago, Ill.) 
245 1 0 |a Photoelasticity  |b proceedings of the international symposium held at Illinois Institute of Technology.  |c Edited by M.M. Frocht. 
260 |a Oxford,  |a New York,  |b Symposium Publications Division, Pergamon Press,  |c 1963. 
300 |a 1 online resource (xxi, 294 pages)  |b illustrations, diagrams 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
504 |a Includes bibliographical references. 
506 |3 Use copy  |f Restrictions unspecified  |2 star  |5 MiAaHDL 
533 |a Electronic reproduction.  |b [Place of publication not identified] :  |c HathiTrust Digital Library,  |d 2010.  |5 MiAaHDL 
538 |a Master and use copy. Digital master created according to Benchmark for Faithful Digital Reproductions of Monographs and Serials, Version 1. Digital Library Federation, December 2002.  |u http://purl.oclc.org/DLF/benchrepro0212  |5 MiAaHDL 
583 1 |a digitized  |c 2010  |h HathiTrust Digital Library  |l committed to preserve  |2 pda  |5 MiAaHDL 
588 0 |a Print version record. 
650 0 |a Photoelasticity  |v Congresses. 
650 6 |a Photo�elasticit�e  |0 (CaQQLa)201-0250325  |v Congr�es.  |0 (CaQQLa)201-0378219 
650 7 |a Photoelasticity  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01061547 
655 2 |a Congress  |0 (DNLM)D016423 
655 7 |a proceedings (reports)  |2 aat  |0 (CStmoGRI)aatgf300027316 
655 7 |a Conference papers and proceedings  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01423772 
655 7 |a Conference papers and proceedings.  |2 lcgft 
655 7 |a Actes de congr�es.  |2 rvmgf  |0 (CaQQLa)RVMGF-000001049 
700 1 |a Frocht, Max Mark,  |d 1894-1974,  |e editor. 
710 2 |a Illinois Institute of Technology. 
710 1 |a United States.  |b Army Research Office. 
776 0 8 |i Print version:  |a International Symposium on Photoelasticity (1961 : Chicago, Ill.).  |t Photoelasticity.  |d Oxford, New York, Symposium Publications Division, Pergamon Press, 1963  |w (DLC) 62022041  |w (OCoLC)1962128 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9781483198392  |z Texto completo