Cargando…

Diamond chemical vapor deposition : nucleation and early growth stages /

This book presents a systematic review of the latest developments in diamond CVD processes, with emphasis on the nucleation and early growth stages of diamond CVD. The objective is to familiarize the reader with the scientific and engineering aspects of diamond CVD, and to provide experienced resear...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Autor principal: Liu, Huimin, 1961-
Otros Autores: Dandy, David S.
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Park Ridge, N.J. : Noyes Publications, �1995.
Colección:Materials science and process technology series. Electronic materials and process technology.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 SCIDIR_ocm49708637
003 OCoLC
005 20231117015140.0
006 m o d
007 cr un|||||||||
008 011105s1995 njua ob 001 0 eng d
010 |z  95030332  
040 |a KNOVL  |b eng  |e pn  |c KNOVL  |d OCLCQ  |d TEF  |d OCLCG  |d DEBSZ  |d OCLCQ  |d DEBBG  |d OCLCQ  |d KNOVL  |d OCLCO  |d VRC  |d OPELS  |d OCLCE  |d N$T  |d UWW  |d IDEBK  |d E7B  |d KNOVL  |d OCLCF  |d OCLCQ  |d COO  |d KNOVL  |d ZCU  |d YDXCP  |d OCLCQ  |d VT2  |d OCLCQ  |d BUF  |d D6H  |d CEF  |d RRP  |d AU@  |d OCLCO  |d WYU  |d ERF  |d OCLCQ  |d HS0  |d LEAUB  |d BRF  |d MM9  |d UAB  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d COM  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d COA  |d OCLCO 
016 7 |a 000011761035  |2 AU 
019 |a 49270370  |a 281558178  |a 301965294  |a 605379625  |a 647802574  |a 648577107  |a 961879085  |a 988615954  |a 999545567  |a 1044330015  |a 1047752127  |a 1056383187  |a 1057966076  |a 1060854688  |a 1066049242  |a 1073083185  |a 1086425200  |a 1108951243  |a 1224452323  |a 1229063777  |a 1340067356 
020 |a 1591240433  |q (electronic bk.) 
020 |a 9781591240433  |q (electronic bk.) 
020 |a 9780815513803 
020 |a 0815513801 
020 |a 9780815516873  |q (electronic bk.) 
020 |a 0815516878  |q (electronic bk.) 
020 |a 9780080946184  |q (e-book) 
020 |a 0080946186  |q (e-book) 
020 |a 1282755099 
020 |a 9781282755093 
020 |a 9786612755095 
020 |a 6612755091 
020 |a 1282013823 
020 |a 9781282013827 
020 |a 9786612013829 
020 |a 6612013826 
024 8 |a (WaSeSS)ssj0000071730 
035 |a (OCoLC)49708637  |z (OCoLC)49270370  |z (OCoLC)281558178  |z (OCoLC)301965294  |z (OCoLC)605379625  |z (OCoLC)647802574  |z (OCoLC)648577107  |z (OCoLC)961879085  |z (OCoLC)988615954  |z (OCoLC)999545567  |z (OCoLC)1044330015  |z (OCoLC)1047752127  |z (OCoLC)1056383187  |z (OCoLC)1057966076  |z (OCoLC)1060854688  |z (OCoLC)1066049242  |z (OCoLC)1073083185  |z (OCoLC)1086425200  |z (OCoLC)1108951243  |z (OCoLC)1224452323  |z (OCoLC)1229063777  |z (OCoLC)1340067356 
042 |a dlr 
050 4 |a TP873.5.D5  |b L58 1995eb 
072 7 |a TEC  |x 009010  |2 bisacsh 
082 0 4 |a 666/.88  |2 22 
084 |a UQ 8220  |2 rvk 
100 1 |a Liu, Huimin,  |d 1961- 
245 1 0 |a Diamond chemical vapor deposition :  |b nucleation and early growth stages /  |c by Huimin Liu and David S. Dandy. 
260 |a Park Ridge, N.J. :  |b Noyes Publications,  |c �1995. 
300 |a 1 online resource (xi, 195 pages) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a Materials science and process technology series. Electronic materials and process technology 
520 |a This book presents a systematic review of the latest developments in diamond CVD processes, with emphasis on the nucleation and early growth stages of diamond CVD. The objective is to familiarize the reader with the scientific and engineering aspects of diamond CVD, and to provide experienced researchers, scientists, and engineers in academics and industry with the latest developments in this growing field. 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
505 0 |a General Introduction -- Atomic and Crystal Structures of Diamond -- Diamond CVD Techniques -- Diamond Nucleation Mechanisms -- Effects of Surface Conditions on Diamond Nucleation -- Effects of Deposition Conditions on Diamond Nucleation -- Theoretical and Modeling Studies on Diamond Nucleation -- References -- Index. 
506 |3 Use copy  |f Restrictions unspecified  |2 star  |5 MiAaHDL 
533 |a Electronic reproduction.  |b [Place of publication not identified] :  |c HathiTrust Digital Library,  |d 2010.  |5 MiAaHDL 
538 |a Master and use copy. Digital master created according to Benchmark for Faithful Digital Reproductions of Monographs and Serials, Version 1. Digital Library Federation, December 2002.  |u http://purl.oclc.org/DLF/benchrepro0212  |5 MiAaHDL 
583 1 |a digitized  |c 2010  |h HathiTrust Digital Library  |l committed to preserve  |2 pda  |5 MiAaHDL 
588 0 |a Print version record. 
506 |a Access restricted to Ryerson students, faculty and staff.  |5 CaOTR 
650 0 |a Chemical vapor deposition. 
650 0 |a Diamonds, Artificial. 
650 6 |a D�ep�ot chimique en phase vapeur.  |0 (CaQQLa)201-0258602 
650 6 |a Diamants artificiels.  |0 (CaQQLa)201-0020016 
650 7 |a TECHNOLOGY & ENGINEERING  |x Chemical & Biochemical.  |2 bisacsh 
650 7 |a Chemical vapor deposition  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00853229 
650 7 |a Diamonds, Artificial  |2 fast  |0 (OCoLC)fst00892608 
650 7 |a CVD-Verfahren  |2 gnd  |0 (DE-588)4009846-1 
650 7 |a Diamant  |2 gnd  |0 (DE-588)4012069-7 
700 1 |a Dandy, David S. 
776 0 8 |i Print version:  |a Liu, Huimin, 1961-  |t Diamond chemical vapor deposition.  |d Park Ridge, N.J. : Noyes Publications, �1995  |z 0815513801  |w (DLC) 95030332  |w (OCoLC)32698652 
830 0 |a Materials science and process technology series.  |p Electronic materials and process technology. 
856 4 0 |u https://sciencedirect.uam.elogim.com/science/book/9780815513803  |z Texto completo