Cargando…

Developments in surface contamination and cleaning : particle deposition, control and removal /

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Kohli, Rajiv, 1947-, Mittal, K. L., 1945-
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Amsterdam ; Boston : Elsevier/William Andrew, ©2010.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000Ia 4500
001 KNOVEL_ocn670499524
003 OCoLC
005 20231027140348.0
006 m o d
007 cr cn|||||||||
008 101019s2010 ne af ob 001 0 eng d
040 |a KNOVL  |b eng  |e pn  |c KNOVL  |d DEBSZ  |d CEF  |d OCLCQ  |d GA0  |d OCLCQ  |d KNOVL  |d OCLCA  |d ZCU  |d KNOVL  |d B24X7  |d DA$  |d IDEBK  |d OCLCQ  |d GBVCP  |d PHUST  |d LIP  |d OCLCQ  |d OCLCA  |d OCLCF  |d RRP  |d OCLCA  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d ESU  |d OCLCO 
019 |a 694511711  |a 765134496  |a 823847451  |a 823917313  |a 824101467  |a 824159417  |a 837786437 
020 |a 9781437778311  |q (electronic bk.) 
020 |a 1437778313  |q (electronic bk.) 
020 |a 9781437778304 
020 |a 1437778305 
029 1 |a DEBBG  |b BV037432871 
029 1 |a DEBSZ  |b 332973069 
029 1 |a DEBSZ  |b 382009274 
029 1 |a GBVCP  |b 83018130X 
029 1 |a NZ1  |b 14231311 
029 1 |a NZ1  |b 15620721 
029 1 |a GBVCP  |b 642992193 
035 |a (OCoLC)670499524  |z (OCoLC)694511711  |z (OCoLC)765134496  |z (OCoLC)823847451  |z (OCoLC)823917313  |z (OCoLC)824101467  |z (OCoLC)824159417  |z (OCoLC)837786437 
037 |b Knovel Corporation  |n http://www.knovel.com 
050 4 |a TA418.7  |b .D48 2010eb 
082 0 4 |a 620.44  |2 22 
049 |a UAMI 
245 0 0 |a Developments in surface contamination and cleaning :  |b particle deposition, control and removal /  |c edited by Rajiv Kohli and Kashmiri L. Mittal. 
246 3 0 |a Particle deposition, control and removal 
260 |a Amsterdam ;  |a Boston :  |b Elsevier/William Andrew,  |c ©2010. 
300 |a 1 online resource (xv, 286 pages, 8 pages of plates) :  |b illustrations (some color) 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
588 0 |a Print version record. 
506 |a Access restricted to Ryerson students, faculty and staff.  |5 CaOTR 
505 0 |a Particle Deposition onto Enclosure Surfaces; Contamination Control: A Systems Approach; Particles in Semiconductor Processing; Continuous Contamination Monitoring Systems; Strippable Coatings for Removal of Surface Contaminants; Ultrasonic Cleaning. 
505 0 |a [V. 1.] Fundamentals and applied aspects -- v. 2. Particle deposition, control and removal. 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Adhesives Coatings Sealants And Inks 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Chemistry & Chemical Engineering 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Manufacturing Engineering 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Electronics & Semiconductors 
650 0 |a Surfaces (Technology) 
650 0 |a Surface contamination  |x Prevention. 
650 0 |a Particles  |x Measurement. 
650 0 |a Cleaning. 
650 0 |a Coatings. 
650 0 |a Dust control. 
650 6 |a Surfaces (Technologie) 
650 6 |a Contamination de surface  |x Prévention. 
650 6 |a Particules (Matière)  |x Mesure. 
650 6 |a Nettoyage. 
650 6 |a Revêtements. 
650 6 |a Poussière  |x Lutte contre. 
650 7 |a cleaning.  |2 aat 
650 7 |a coating (material)  |2 aat 
650 7 |a Cleaning  |2 fast 
650 7 |a Coatings  |2 fast 
650 7 |a Dust control  |2 fast 
650 7 |a Particles  |x Measurement  |2 fast 
650 7 |a Surfaces (Technology)  |2 fast 
700 1 |a Kohli, Rajiv,  |d 1947- 
700 1 |a Mittal, K. L.,  |d 1945- 
776 0 8 |i Print version:  |t Developments in surface contamination and cleaning.  |d Amsterdam ; Boston : Elsevier/William Andrew, ©2010  |z 9781437778304  |w (OCoLC)496230957 
856 4 0 |u https://appknovel.uam.elogim.com/kn/resources/kpDSCCPDC5/toc  |z Texto completo 
938 |a Books 24x7  |b B247  |n bke00036550 
938 |a ProQuest MyiLibrary Digital eBook Collection  |b IDEB  |n 273820 
994 |a 92  |b IZTAP