Chemical vapour deposition : precursors, processes and applications /

Chemical Vapour Deposition (CVD) involves the deposition of thin solid films from chemical precursors in the vapour phase, and encompasses a variety of deposition techniques, including a range of thermal processes, plasma enhanced CVD (PECVD), photon- initiated CVD, and atomic layer deposition (ALD)...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Jones, Anthony C., Hitchman, Michael L.
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry, ©2009.
Temas:
Chemical vapor deposition.
Dépôt chimique en phase vapeur.
TECHNOLOGY & ENGINEERING > Technical & Manufacturing Industries & Trades.
Acceso en línea:Texto completo
Tabla de Contenidos:
  • 9780854044658; i_iv; v_vi; vii_xvi; 001_036; 037_092; 093_157; 158_206; 207_271; 272_319; 320_356; 357_412; 413_450; 451_476; 477_493; 494_534; 535_570; 571_582

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