Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions /

An overview of the technology that describes the advantages provided by plasmas, plasma fundamentals, and a range of plasma processes relevant to the deposition and etching of thin films for microelectronics and other fields.

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Rossnagel, Stephen M., Cuomo, J. J., Westwood, William D. (William Dickson), 1937-
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Park Ridge, N.J. : Noyes Publications, ©1990.
Colección:Materials science and process technology series.
Temas:
Plasma engineering.
Semiconductors > Etching.
Plasma etching.
Technique des plasmas.
Semi-conducteurs > Attaque chimique.
Gravure par plasma.
Plasma engineering
Plasma etching
Semiconductors > Etching
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 KNOVEL_ocm49708585
003 OCoLC
005 20231027140348.0
006 m o d
007 cr un|||||||||
008 020204s1990 njua obf 001 0 eng d
010 |z  89022834  
040 |a KNOVL  |b eng  |e pn  |c KNOVL  |d OCLCQ  |d TEF  |d OCLCG  |d DEBSZ  |d OCLCQ  |d KNOVL  |d OCLCO  |d KNOVL  |d OCLCF  |d ZCU  |d OCLCQ  |d E7B  |d COO  |d KNOVL  |d OCLCQ  |d VT2  |d OCLCQ  |d BUF  |d CEF  |d RRP  |d AU@  |d WYU  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d COA  |d OCLCO 
016 7 |a 000006639552  |2 AU 
019 |a 49411323  |a 468755177  |a 646783016  |a 961885618  |a 988636478  |a 999441702  |a 1057938460  |a 1065922859  |a 1340111504 
020 |a 1591242975  |q (electronic bk.) 
020 |a 9781591242970  |q (electronic bk.) 
020 |a 9780815512202 
020 |a 0815512201 
024 8 |a (WaSeSS)ssj0000072233 
029 1 |a AU@  |b 000025337256 
029 1 |a DEBSZ  |b 338255389 
029 1 |a GBVCP  |b 830181148 
029 1 |a NZ1  |b 10240429 
029 1 |a NZ1  |b 15593230 
035 |a (OCoLC)49708585  |z (OCoLC)49411323  |z (OCoLC)468755177  |z (OCoLC)646783016  |z (OCoLC)961885618  |z (OCoLC)988636478  |z (OCoLC)999441702  |z (OCoLC)1057938460  |z (OCoLC)1065922859  |z (OCoLC)1340111504 
050 4 |a TA2020  |b .H37 1990eb 
082 0 4 |a 621.044  |2 22 
049 |a UAMI 
245 0 0 |a Handbook of plasma processing technology :  |b fundamentals, etching, deposition, and surface interactions /  |c edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood. 
260 |a Park Ridge, N.J. :  |b Noyes Publications,  |c ©1990. 
300 |a 1 online resource (xxiii, 523 pages) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a Materials science and process technology series 
520 |a An overview of the technology that describes the advantages provided by plasmas, plasma fundamentals, and a range of plasma processes relevant to the deposition and etching of thin films for microelectronics and other fields. 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
588 0 |a Print version record. 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Electronics & Semiconductors 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Metals & Metallurgy 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Adhesives Coatings Sealants And Inks 
650 0 |a Plasma engineering. 
650 0 |a Semiconductors  |x Etching. 
650 0 |a Plasma etching. 
650 6 |a Technique des plasmas. 
650 6 |a Semi-conducteurs  |x Attaque chimique. 
650 6 |a Gravure par plasma. 
650 7 |a Plasma engineering  |2 fast 
650 7 |a Plasma etching  |2 fast 
650 7 |a Semiconductors  |x Etching  |2 fast 
700 1 |a Rossnagel, Stephen M. 
700 1 |a Cuomo, J. J. 
700 1 |a Westwood, William D.  |q (William Dickson),  |d 1937- 
776 0 8 |i Print version:  |t Handbook of plasma processing technology.  |d Park Ridge, N.J. : Noyes Publications, ©1990  |z 0815512201  |w (DLC) 89022834  |w (OCoLC)20265048 
830 0 |a Materials science and process technology series. 
856 4 0 |u https://appknovel.uam.elogim.com/kn/resources/kpHPPTFED3/toc  |z Texto completo 
936 |a BATCHLOAD 
938 |a ebrary  |b EBRY  |n ebr10265735 
994 |a 92  |b IZTAP 

Ejemplares similares