Cargando…

Handbook of vacuum arc science and technology : fundamentals and applications /

Describes the basic physics and technological applications of vacuum arcs. Part I describes basic physics of the vacuum arc, beginning with a brief tutorial review of plasma and electrical discharge physics, then describes the arc ignition process, cathode and anode spots which serve as the locus fo...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Otros Autores: Sanders, David M., Boxman, R. L., Martin, Philip J.
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Park Ridge, N.J., U.S.A. : Noyes Publications, ©1995.
Colección:Materials science and process technology series. Electronic materials and process technology.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 KNOVEL_ocm49708233
003 OCoLC
005 20231027140348.0
006 m o d
007 cr un|||||||||
008 011108s1995 njua ob 001 0 eng d
040 |a KNOVL  |b eng  |e pn  |c KNOVL  |d OCLCQ  |d TEF  |d DEBSZ  |d OCLCQ  |d KNOVL  |d ZCU  |d OPELS  |d B24X7  |d N$T  |d UWW  |d OCLCE  |d IDEBK  |d E7B  |d OCLCO  |d KNOVL  |d OCLCF  |d COO  |d OCLCO  |d KNOVL  |d YDXCP  |d OCLCQ  |d TEF  |d VT2  |d OCLCQ  |d UAB  |d D6H  |d OCLCQ  |d CEF  |d RRP  |d AU@  |d OCLCO  |d WYU  |d YOU  |d ERF  |d OCLCQ  |d LEAUB  |d OCLCQ  |d UX1  |d BRF  |d MM9  |d EYM  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d COA  |d UKAHL  |d OCLCQ  |d OCLCO 
019 |a 49270491  |a 281594274  |a 302096172  |a 604968727  |a 647802531  |a 658865089  |a 961882800  |a 977367602  |a 988635747  |a 999408680  |a 999650593  |a 1044371937  |a 1056384965  |a 1057959109  |a 1060197359  |a 1065750990  |a 1073063817  |a 1086501462  |a 1151958253  |a 1160012257  |a 1194742575  |a 1224451896  |a 1340061558  |a 1352123827 
020 |a 1591240980  |q (electronic bk.) 
020 |a 9781591240983  |q (electronic bk.) 
020 |a 9780815517795  |q (electronic bk.) 
020 |a 0815517793  |q (electronic bk.) 
020 |a 9780080946153  |q (e-book) 
020 |a 0080946151 
020 |z 9780815513759 
020 |z 0815513755 
029 1 |a AU@  |b 000025337020 
029 1 |a CHNEW  |b 001004429 
029 1 |a DEBBG  |b BV039828131 
029 1 |a DEBBG  |b BV042304199 
029 1 |a DEBSZ  |b 338255168 
029 1 |a DEBSZ  |b 405321112 
029 1 |a GBVCP  |b 878882839 
029 1 |a NZ1  |b 10240192 
029 1 |a NZ1  |b 15177127 
029 1 |a NZ1  |b 15627147 
035 |a (OCoLC)49708233  |z (OCoLC)49270491  |z (OCoLC)281594274  |z (OCoLC)302096172  |z (OCoLC)604968727  |z (OCoLC)647802531  |z (OCoLC)658865089  |z (OCoLC)961882800  |z (OCoLC)977367602  |z (OCoLC)988635747  |z (OCoLC)999408680  |z (OCoLC)999650593  |z (OCoLC)1044371937  |z (OCoLC)1056384965  |z (OCoLC)1057959109  |z (OCoLC)1060197359  |z (OCoLC)1065750990  |z (OCoLC)1073063817  |z (OCoLC)1086501462  |z (OCoLC)1151958253  |z (OCoLC)1160012257  |z (OCoLC)1194742575  |z (OCoLC)1224451896  |z (OCoLC)1340061558  |z (OCoLC)1352123827 
037 |a 153813:153973  |b Elsevier Science & Technology  |n http://www.sciencedirect.com 
042 |a dlr 
050 4 |a QC705  |b .H36 1995eb 
072 7 |a SCI  |x 022000  |2 bisacsh 
072 7 |a SCI  |x 021000  |2 bisacsh 
082 0 4 |a 537.5/3  |2 22 
084 |a UR 6000  |2 rvk 
049 |a UAMI 
245 0 0 |a Handbook of vacuum arc science and technology :  |b fundamentals and applications /  |c edited by Raymond L. Boxman, David M. Sanders, Philip J. Martin ; foreword by James M. Lafferty. 
260 |a Park Ridge, N.J., U.S.A. :  |b Noyes Publications,  |c ©1995. 
300 |a 1 online resource (xxxi, 742 pages) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a Materials science and process technology series. Electronic materials and process technology 
520 |a Describes the basic physics and technological applications of vacuum arcs. Part I describes basic physics of the vacuum arc, beginning with a brief tutorial review of plasma and electrical discharge physics, then describes the arc ignition process, cathode and anode spots which serve as the locus for plasma generation, and resultant interelectrode plasma. Part II describes the applications of the vacuum arc for depositing thin films and coatings, refining metals, switching high power, and as sources of intense electron, ion, plasma, and x-ray beams. 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
588 0 |a Print version record. 
505 0 |a Part I: Fundamentals of Vacuum Arc Science and Technology -- Electrical Discharges and Plasmas-A Brief Tutorial -- Arc Ignition -- Cathode Spots -- The Interelectrode Plasma -- Anode Phenomena -- Part II: Applications of Vacuum Arc Science and Technology -- Coatings From the Vacuum Arc -- Vacuum Arc Metal Processing -- Vacuum Switching of High Current and High Voltage at Power Frequencies -- Pulsed Power Applications -- Index -- About the Contributors. 
506 |3 Use copy  |f Restrictions unspecified  |2 star  |5 MiAaHDL 
533 |a Electronic reproduction.  |b [Place of publication not identified] :  |c HathiTrust Digital Library,  |d 2010.  |5 MiAaHDL 
538 |a Master and use copy. Digital master created according to Benchmark for Faithful Digital Reproductions of Monographs and Serials, Version 1. Digital Library Federation, December 2002.  |u http://purl.oclc.org/DLF/benchrepro0212  |5 MiAaHDL 
583 1 |a digitized  |c 2010  |h HathiTrust Digital Library  |l committed to preserve  |2 pda  |5 MiAaHDL 
590 |a Knovel  |b ACADEMIC - Electronics & Semiconductors 
650 0 |a Vacuum arcs. 
650 0 |a Vacuum arcs  |x Industrial applications. 
650 0 |a Plasma (Ionized gases) 
650 6 |a Arcs sous vide. 
650 6 |a Arcs sous vide  |x Applications industrielles. 
650 6 |a Plasma (Gaz ionisés) 
650 7 |a SCIENCE  |x Physics  |x Electromagnetism.  |2 bisacsh 
650 7 |a SCIENCE  |x Physics  |x Electricity.  |2 bisacsh 
650 7 |a Plasma (Ionized gases)  |2 fast 
650 7 |a Vacuum arcs  |2 fast 
650 7 |a Vacuum arcs  |x Industrial applications  |2 fast 
650 7 |a Vakuumlichtbogen  |2 gnd 
650 7 |a Plasmas (gaz ionisés)  |2 ram 
650 7 |a Arc électrique.  |2 ram 
700 1 |a Sanders, David M. 
700 1 |a Boxman, R. L. 
700 1 |a Martin, Philip J. 
776 0 8 |i Print version:  |t Handbook of vacuum arc science and technology.  |d Park Ridge, N.J., U.S.A. : Noyes Publications, ©1995  |z 0815513755  |w (DLC) 95022677  |w (OCoLC)32665287 
830 0 |a Materials science and process technology series.  |p Electronic materials and process technology. 
856 4 0 |u https://appknovel.uam.elogim.com/kn/resources/kpHVASTFA2/toc  |z Texto completo 
936 |a BATCHLOAD 
938 |a Askews and Holts Library Services  |b ASKH  |n AH23091754 
938 |a Books 24x7  |b B247  |n bke00032267 
938 |a ebrary  |b EBRY  |n ebr10305305 
938 |a EBSCOhost  |b EBSC  |n 254261 
938 |a YBP Library Services  |b YANK  |n 2965174 
938 |a YBP Library Services  |b YANK  |n 3626019 
994 |a 92  |b IZTAP