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Computational lithography

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Autor principal: Ma, Xu, 1983-
Otros Autores: Arce, Gonzalo R.
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Colección:Wiley series in pure and applied optics.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

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