Plasma processing and processing science /

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Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Autores Corporativos: National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing, National Research Council (U.S.). Naval Studies Board, National Research Council (U.S.). Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications
Otros Autores: Chen, Francis F., 1929-
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Washington, D.C. : National Academy Press, 1995.
Colección:NRL strategic series.
Temas:
Plasma engineering.
Semiconductors > Etching.
Plasma etching.
Technique des plasmas.
Semi-conducteurs > Attaque chimique.
Gravure par plasma.
TECHNOLOGY & ENGINEERING > Mechanical.
Plasma engineering
Plasma etching
Semiconductors > Etching
Acceso en línea:Texto completo

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