Cargando…

Plasma processing of materials : scientific opportunities and technological challenges /

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Autor Corporativo: National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing of Materials
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Washington, D.C. : National Academy Press, 1991.
Temas:
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000Ma 4500
001 EBSCO_ocm43475627
003 OCoLC
005 20231017213018.0
006 m o d
007 cr cn|||||||||
008 000112s1991 dcua o 000 0 eng d
010 |a  91066812  
040 |a N$T  |b eng  |e pn  |c N$T  |d OCL  |d OCLCQ  |d OCL  |d YDXCP  |d OCLCQ  |d COF  |d OCLCQ  |d COCUF  |d OCLCE  |d E7B  |d CUSER  |d DKDLA  |d ADU  |d IDEBK  |d CUS  |d VPI  |d FVL  |d OCLCQ  |d OCLCF  |d OCLCQ  |d NLGGC  |d OCLCQ  |d UV0  |d OCLCQ  |d AZK  |d OCLCQ  |d LOA  |d MOR  |d PIFBR  |d OCLCQ  |d BUF  |d STF  |d WRM  |d VTS  |d NRAMU  |d EZ9  |d INT  |d VT2  |d OCLCQ  |d AU@  |d WYU  |d UKCRE  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d INARC  |d QGK 
019 |a 133166726  |a 301331452  |a 326754879  |a 475452781  |a 614620430  |a 645824130  |a 666932774  |a 722249159  |a 728014561  |a 961670055  |a 961679911  |a 962592336  |a 962716419  |a 966199181  |a 988443441  |a 991988040  |a 1037915847  |a 1038701257  |a 1045497160  |a 1047525714  |a 1053023850  |a 1055334602  |a 1058093928  |a 1065043700  |a 1081244963  |a 1153481889  |a 1156362447  |a 1228603603  |a 1249251486  |a 1259204972  |a 1392329949 
020 |a 0585084637  |q (electronic bk.) 
020 |a 9780585084633  |q (electronic bk.) 
020 |z 0309045975  |q (pbk.) 
020 |z 9780309045971  |q (pbk.) 
020 |a 1280203366 
020 |a 9781280203367 
020 |a 9786610203369 
020 |a 6610203369 
020 |a 0309583756 
020 |a 9780309583756 
029 1 |a AU@  |b 000050979575 
029 1 |a AU@  |b 000051514558 
029 1 |a DEBBG  |b BV043065639 
029 1 |a DEBSZ  |b 422567744 
029 1 |a GBVCP  |b 800540425 
029 1 |a NZ1  |b 11927976 
029 1 |a NZ1  |b 16067646 
029 1 |a DKDLA  |b 820120-katalog:999928198205765 
035 |a (OCoLC)43475627  |z (OCoLC)133166726  |z (OCoLC)301331452  |z (OCoLC)326754879  |z (OCoLC)475452781  |z (OCoLC)614620430  |z (OCoLC)645824130  |z (OCoLC)666932774  |z (OCoLC)722249159  |z (OCoLC)728014561  |z (OCoLC)961670055  |z (OCoLC)961679911  |z (OCoLC)962592336  |z (OCoLC)962716419  |z (OCoLC)966199181  |z (OCoLC)988443441  |z (OCoLC)991988040  |z (OCoLC)1037915847  |z (OCoLC)1038701257  |z (OCoLC)1045497160  |z (OCoLC)1047525714  |z (OCoLC)1053023850  |z (OCoLC)1055334602  |z (OCoLC)1058093928  |z (OCoLC)1065043700  |z (OCoLC)1081244963  |z (OCoLC)1153481889  |z (OCoLC)1156362447  |z (OCoLC)1228603603  |z (OCoLC)1249251486  |z (OCoLC)1259204972  |z (OCoLC)1392329949 
042 |a dlr 
050 4 |a TA2005  |b .N37 1991eb 
072 7 |a TEC  |x 009070  |2 bisacsh 
082 0 4 |a 621.044  |2 20 
049 |a UAMI 
110 2 |a National Research Council (U.S.).  |b Panel on Plasma Processing of Materials. 
245 1 0 |a Plasma processing of materials :  |b scientific opportunities and technological challenges /  |c Panel on Plasma Processing of Materials, Plasma Science Committee, Board on Physics and Astronomy, Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, National Research Council. 
260 |a Washington, D.C. :  |b National Academy Press,  |c 1991. 
300 |a 1 online resource (xii, 75 pages) :  |b illustrations 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
347 |a data file  |2 rda 
588 0 |a Print version record. 
506 |3 Use copy  |f Restrictions unspecified  |2 star  |5 MiAaHDL 
533 |a Electronic reproduction.  |b [S.l.] :  |c HathiTrust Digital Library,  |d 2010.  |5 MiAaHDL 
538 |a Master and use copy. Digital master created according to Benchmark for Faithful Digital Reproductions of Monographs and Serials, Version 1. Digital Library Federation, December 2002.  |u http://purl.oclc.org/DLF/benchrepro0212  |5 MiAaHDL 
583 1 |a digitized  |c 2010  |h HathiTrust Digital Library  |l committed to preserve  |2 pda  |5 MiAaHDL 
546 |a English. 
590 |a eBooks on EBSCOhost  |b EBSCO eBook Subscription Academic Collection - Worldwide 
650 0 |a Plasma engineering. 
650 0 |a Microelectronics  |x Materials  |x Effect of radiation on. 
650 0 |a Surfaces (Technology) 
650 6 |a Technique des plasmas. 
650 6 |a Microélectronique  |x Matériaux  |x Effets du rayonnement sur. 
650 6 |a Surfaces (Technologie) 
650 7 |a TECHNOLOGY & ENGINEERING  |x Mechanical.  |2 bisacsh 
650 7 |a Microelectronics  |x Materials  |x Effect of radiation on.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01019773 
650 7 |a Plasma engineering.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01066322 
650 7 |a Surfaces (Technology)  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01139278 
776 0 8 |i Print version:  |a National Research Council (U.S.). Panel on Plasma Processing of Materials.  |t Plasma processing of materials.  |d Washington, D.C. : National Academy Press, 1991  |z 0309045975  |w (DLC) 91066812  |w (OCoLC)24832731 
856 4 0 |u https://ebsco.uam.elogim.com/login.aspx?direct=true&scope=site&db=nlebk&AN=14049  |z Texto completo 
938 |a ebrary  |b EBRY  |n ebr10055392 
938 |a EBSCOhost  |b EBSC  |n 14049 
938 |a ProQuest MyiLibrary Digital eBook Collection  |b IDEB  |n 20336 
938 |a YBP Library Services  |b YANK  |n 2305353 
938 |a YBP Library Services  |b YANK  |n 6012565 
938 |a Internet Archive  |b INAR  |n plasmaprocessing0000nati 
994 |a 92  |b IZTAP