Database needs for modeling and simulation of plasma processing /

Detalles Bibliográficos
Clasificación:Libro Electrónico
Autor Corporativo: National Research Council (U.S.). Panel on Database Needs in Plasma Processing
Formato: Electrónico eBook
Idioma:Inglés
Publicado: Washington, D.C. : National Academy Press, 1996.
Colección:Compass series (Washington, D.C.)
Temas:
Semiconductors > Design and construction > Congresses.
Plasma engineering > Databases > Congresses.
Plasma engineering > Computer simulation > Congresses.
Semi-conducteurs > Conception et construction > Congrès.
Technique des plasmas > Bases de données > Congrès.
Technique des plasmas > Simulation par ordinateur > Congrès.
SCIENCE > Physics > Electricity.
Plasma engineering > Computer simulation.
Semiconducteurs > Conception et construction.
Plasmas, Technique des > Bases de donnees.
Plasmas, Technique des > Simulation par ordinateur.
Semiconductors > Design and construction.
Plasma engineering > Databases.
Andre fag (naturvidenskab og teknik) > Andre fag.
Conference papers and proceedings.
Acceso en línea:Texto completo

MARC

LEADER 00000cam a2200000 a 4500
001 EBSCO_ocm43475625
003 OCoLC
005 20231017213018.0
006 m o d
007 cr cn|||||||||
008 000112s1996 dcu ob 100 0 eng d
040 |a N$T  |b eng  |e pn  |c N$T  |d OCL  |d OCLCQ  |d MUQ  |d OCL  |d OCLCQ  |d OCL  |d YDXCP  |d OCLCQ  |d COF  |d OCLCQ  |d TUU  |d OCLCQ  |d LCS  |d TLS  |d WVH  |d INU  |d CIN  |d ADU  |d E7B  |d CUS  |d DKDLA  |d FVL  |d OCLCQ  |d TNF  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d SLY  |d UV0  |d OCLCO  |d OCLCQ  |d OCLCO  |d AZK  |d OCLCQ  |d LOA  |d AGLDB  |d MOR  |d PIFBR  |d OCLCQ  |d U3W  |d LUE  |d OCLCF  |d WRM  |d VTS  |d COCUF  |d NRAMU  |d INT  |d VT2  |d TOF  |d OCLCQ  |d TKN  |d STF  |d M8D  |d JZ6  |d OCLCO  |d UKAHL  |d OCLCO  |d OCLCQ 
019 |a 40895353  |a 70772079  |a 475673052  |a 614592359  |a 647367525  |a 722262699  |a 728015481  |a 760642055  |a 771283874  |a 880190779  |a 961571899  |a 961574875  |a 962647470  |a 962703668 
020 |a 0585084548  |q (electronic bk.) 
020 |a 9780585084541  |q (electronic bk.) 
020 |z 0309055911  |q (pbk.) 
020 |z 9780309055918  |q (pbk.) 
029 1 |a AU@  |b 000051473132 
029 1 |a DEBBG  |b BV043065641 
029 1 |a DEBSZ  |b 422567914 
029 1 |a GBVCP  |b 800540417 
029 1 |a NZ1  |b 11928055 
029 1 |a NZ1  |b 16051445 
035 |a (OCoLC)43475625  |z (OCoLC)40895353  |z (OCoLC)70772079  |z (OCoLC)475673052  |z (OCoLC)614592359  |z (OCoLC)647367525  |z (OCoLC)722262699  |z (OCoLC)728015481  |z (OCoLC)760642055  |z (OCoLC)771283874  |z (OCoLC)880190779  |z (OCoLC)961571899  |z (OCoLC)961574875  |z (OCoLC)962647470  |z (OCoLC)962703668 
050 4 |a TK7871.85  |b .D374 1996eb 
072 7 |a SCI  |x 021000  |2 bisacsh 
082 0 4 |a 537.6/221  |2 21 
084 |a TN305. 3-532  |2 clc 
049 |a UAMI 
245 0 0 |a Database needs for modeling and simulation of plasma processing /  |c Panel on Database Needs in Plasma Processing, Committee on Atomic, Molecular, and Optical Sciences and Plasma Science Committee, Board on Physics and Astronomy, Commission on Physical Sciences, Mathematics, and Applications, National Research Council. 
260 |a Washington, D.C. :  |b National Academy Press,  |c 1996. 
300 |a 1 online resource (64 pages) 
336 |a text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a computer  |b c  |2 rdamedia 
338 |a online resource  |b cr  |2 rdacarrier 
347 |a data file 
490 1 |a The compass series 
504 |a Includes bibliographical references. 
588 0 |a Print version record. 
590 |a eBooks on EBSCOhost  |b EBSCO eBook Subscription Academic Collection - Worldwide 
650 0 |a Semiconductors  |x Design and construction  |v Congresses. 
650 0 |a Plasma engineering  |x Databases  |v Congresses. 
650 0 |a Plasma engineering  |x Computer simulation  |v Congresses. 
650 6 |a Semi-conducteurs  |x Conception et construction  |v Congrès. 
650 6 |a Technique des plasmas  |x Bases de données  |v Congrès. 
650 6 |a Technique des plasmas  |x Simulation par ordinateur  |v Congrès. 
650 7 |a SCIENCE  |x Physics  |x Electricity.  |2 bisacsh 
650 0 7 |a Plasma engineering  |x Computer simulation.  |2 cct 
650 0 7 |a Semiconducteurs  |x Conception et construction.  |2 cct 
650 0 7 |a Plasmas, Technique des  |x Bases de donnees.  |2 cct 
650 0 7 |a Plasmas, Technique des  |x Simulation par ordinateur.  |2 cct 
650 0 7 |a Semiconductors  |x Design and construction.  |2 cct 
650 0 7 |a Plasma engineering  |x Databases.  |2 cct 
650 7 |a Plasma engineering  |x Computer simulation.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01066323 
650 7 |a Semiconductors  |x Design and construction.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01112213 
653 |a Andre fag (naturvidenskab og teknik)  |a Andre fag. 
655 7 |a Conference papers and proceedings.  |2 fast  |0 (OCoLC)fst01423772 
710 2 |a National Research Council (U.S.).  |b Panel on Database Needs in Plasma Processing. 
776 0 8 |i Print version:  |t Database needs for modeling and simulation of plasma processing.  |d Washington, D.C. : National Academy Press, 1996  |z 0309055911  |w (DLC) 96070732  |w (OCoLC)36176538 
830 0 |a Compass series (Washington, D.C.) 
856 4 0 |u https://ebsco.uam.elogim.com/login.aspx?direct=true&scope=site&db=nlebk&AN=14032  |z Texto completo 
936 |a BATCHLOAD 
938 |a Askews and Holts Library Services  |b ASKH  |n AH36616399 
938 |a ebrary  |b EBRY  |n ebr10056959 
938 |a EBSCOhost  |b EBSC  |n 14032 
938 |a YBP Library Services  |b YANK  |n 2305349 
938 |a YBP Library Services  |b YANK  |n 6012453 
994 |a 92  |b IZTAP 

Ejemplares similares